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第九届中国南京光学技术研讨会

发布时间 : 2019-08-12 00:00:00

2019年第九届中国南京光学技术交流研讨会，计划安排在2019年11月在重庆召开。

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2019年第九届中国南京光学技术交流研讨会，计划安排在2019年11月在重庆召开。

第五届中国南京光学技术交流会圆满结束

发布时间 : 2011-05-03 00:00:00

第五届中国南京光学技术交流会2011年4月29日在成都圆满结束，来自全国各地光学行业专家、代表100多人，会议邀请17位专家做专题报告;中国兵工学会领导、中国兵工学会光学专业委员会领导出席会议!中国工程院院士潘君骅先生、周立伟先生到会并为代表作精彩报告

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第五届中国南京光学技术交流会2011年4月29日在成都圆满结束，来自全国各地光学行业专家、代表100多人，会议邀请17位专家做专题报告;中国兵工学会领导、中国兵工学会光学专业委员会领导出席会议!中国工程院院士潘君骅先生、周立伟先生到会并为代表作精彩报告

首届中国光学加工辅材及工具技术研讨会圆满结束

发布时间 : 2010-09-09 00:00:00

由中国兵工学会、中国兵工学会光学专委会主办的首届中国光学加工辅料及工具技术研讨会于2010年9月3-4日在广州召开，参加会议的代表来自全国各地，与会代表80名，会议邀请6个专题报告报告主要涉及：抛光机理(抛光粉)和工具设计、新型金刚石固结磨料抛光、特种光学辅材、精磨片的选择应用技术、光敏胶技术和超精密加工对于设备和辅材要求等;会议代表始终热情、认真听取报告;80多位代表从第一个报告到最后一个都保持非常好的秩序。

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由中国兵工学会、中国兵工学会光学专委会主办的首届中国光学加工辅料及工具技术研讨会于2010年9月3-4日在广州召开，参加会议的代表来自全国各地，与会代表80名，会议邀请6个专题报告报告主要涉及：抛光机理(抛光粉)和工具设计、新型金刚石固结磨料抛光、特种光学辅材、精磨片的选择应用技术、光敏胶技术和超精密加工对于设备和辅材要求等;会议代表始终热情、认真听取报告;80多位代表从第一个报告到最后一个都保持非常好的秩序。

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精密光学辅料

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Loc300抛光粉

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Loc300抛光粉

LOC300抛光粉是一种中等含铈量的白色抛光粉，具有很强的抛光效力，适用于抛光中等精度要求的零件。

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产品编号

所属分类

精密光学辅料

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产品描述

介绍:

LOC300抛光粉是一种中等含铈量的白色抛光粉，具有很强的抛光效力，适用于抛光中等精度要求的零件。

应用：

LOC300抛光粉能用于多种形式的抛光，特别适用于以下产品抛光：

☆数字母盘、光盘粗抛

☆手机显示屏

☆石英水晶、水晶工艺品

☆光学平面、棱镜高速抛光

☆光学元件手修抛光

技术参数:

稀土化合物的含量：90% min.

CeO2在稀土中含量： 55% min.

平均粒度： 2.0 - 3.0 μm

PH值： 7～ 8

外观：白色

建议抛光浓度: 约60 - 100克/升。

抛光垫材料：适用于各种抛光模材料。

抛光温度：20 - 30℃

包装： 20Kg/桶

关键词:

Loc300抛光粉

上一个

LOC100抛光粉

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Opaline4050抛光粉

苏公网安备32011502012236号

市场部

+86-25-84271941

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