大型双面抛光获得专利

        访问次数: 日期:2018-8-9 15:20

        摘要:

        我公司研制的超大平面超薄元件双面研磨抛光设备获得技术专利。该设备不同于传统的行星式双面抛光,把主动环抛、经典抛光等超精密加工原理结合,组合成复杂的运动轨迹,专门加工回转直径超大的双面需要抛光的超薄元件。

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        该资讯的关键词为:超薄、双面抛光、窗口、高精度