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第九届中国南京光学技术研讨会
第五届中国南京光学技术交流会圆满结束
发布时间 : 2011-05-03 00:00:00
首届中国光学加工辅材及工具技术研讨会圆满结束
发布时间 : 2010-09-09 00:00:00
大型双面抛光获得专利
- 分类：公司新闻
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- 来源：
- 发布时间：2018-08-09 00:00
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【概要描述】我公司研制的超大平面超薄元件双面研磨抛光设备获得技术专利。该设备不同于传统的行星式双面抛光，把主动环抛、经典抛光等超精密加工原理结合，组合成复杂的运动轨迹，专门加工回转直径超大的双面需要抛光的超薄元件。
大型双面抛光获得专利
【概要描述】我公司研制的超大平面超薄元件双面研磨抛光设备获得技术专利。该设备不同于传统的行星式双面抛光，把主动环抛、经典抛光等超精密加工原理结合，组合成复杂的运动轨迹，专门加工回转直径超大的双面需要抛光的超薄元件。
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我公司研制的超大平面超薄元件双面研磨抛光设备获得技术专利。该设备不同于传统的行星式双面抛光，把主动环抛、经典抛光等超精密加工原理结合，组合成复杂的运动轨迹，专门加工回转直径超大的双面需要抛光的超薄元件。
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