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超大精密双面抛光设备论证设计完毕
2010-01-29 11:13:16
(已经被浏览335次)
我公司设计的超大光学元件双面抛光设备设计工作已经论证完毕.该设备主要解决大型元件(直径800以上)的双面抛光问题,具有效率高.抛光质量高的特点.是个批量生产大型双面抛光的理想装备.
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